產(chǎn)品介紹： 

華測儀器高溫管式爐主要用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火等。

目前高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實(shí)現(xiàn)溫度的測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實(shí)現(xiàn)，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。 

它提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。  

同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)可靠。以提高試驗(yàn)人員的工作效率，實(shí)現(xiàn)全溫度控制操作！ 

本試驗(yàn)爐具有：1000度、1200度、1400度各種型號。也可根據(jù)用戶需求訂制！

用途：工礦企業(yè)、高校、研究所等做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、質(zhì)量檢測。粉末冶金行業(yè)以及義齒加工行業(yè)的烘烤、氧化鋯盤預(yù)燒結(jié)等。根據(jù)加熱區(qū)大小，進(jìn)行小試，中試，批量生產(chǎn)。

應(yīng)用范圍： 

1. 電子材料

◆半導(dǎo)體用硅化合化的PRA（加熱后急速冷卻）

◆熱源薄膜形成 

◆激活離子注入后 

◆硅化物的形成 

2. 陶瓷與無機(jī)材料

◆陶瓷基板退火爐 

◆玻璃基板退火爐。 

◆陶瓷張力、撓曲試驗(yàn)退火爐。 

3. 鋼鐵和金屬材料

◆薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬。 

◆爐焊接模擬 

◆高真空熱處理（1000°C以下）

◆大氣氣體熔化過程 

◆壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗(yàn)爐 

4. 復(fù)合材料

◆耐熱性評價(jià)爐 

◆無機(jī)復(fù)合材料熱循環(huán)試驗(yàn)爐 

5. 其它

◆高溫拉伸壓縮試驗(yàn)爐。 

◆分段分區(qū)控制爐 

◆溫度梯度爐 

◆爐氣分析 

◆超導(dǎo)陶瓷退火爐